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- Autorinnen/Autoren:
- Sauter, Martin; Bertagnolli, Emmerich; Knapek, Erwin; Stemmer, Andreas; Fröschle, Barbara; Eisele, Ignaz; Klose, Helmut
- Dokumenttyp:
- Zeitschriftenartikel / Journal Article
- Titel:
- Application of electron beam lithography for downscaling of SOI-Bipolar and BiCMOS
- Titel Sammelband:
- Micro- and Nano-Engineering 95
- Zeitschrift:
- Microeletronic Engineering
- Jahrgang:
- 30
- Heftnummer:
- 1-4
- Jahr:
- 1996
- Seitenbereich:
- 31-34
- Sprache:
- Englisch
- DOI:
- 10.1016/0167-9317(95)00188-3
- URL zum Inhalt:
- https://doi.org/10.1016/0167-9317(95)00188-3
- Fakultät:
- Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
- Institut:
- ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
- Professorin/Professor:
- Sauter, Martin
- Open Access:
- Nein / No
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